NTT、超薄膜のLEDが作製できる技術を開発

日本電信電話（NTT）は2012年４月11日、LEDなどに使用されている窒化ガリウム系半導体薄膜素子を成長用基板から簡単に剥離する技術を世界で初めて開発したと発表した。

0.002ミリメートル厚程度の薄膜素子を低コストで作製することが可能となり、可視光を透過して紫外線で発電する太陽電池の開発が期待される。

また、従来は0.5ミリメートル程度ある基板の厚みがLED全体の厚みとなってしまう問題があったが、同技術を用いることで、0.2ミリメートル厚程度の薄いLED作製も期待できる。

今後剥離する薄膜素子の面積を大きくするとともに、窓や乗り物に貼りつけて使う太陽電池への応用や、既存機器の特性改善などに取り組む考え。

登録日時：2012/08/07 06:00:15 AM