東芝、芝浦メカトロニクス、クロリンエンジニアズの３社は2007年２月19日、半導体製造工程のレジスト除去で新技術となる電解硫酸方式を共同開発したと発表した。本方式の実用化は業界初である。

レジストは半導体回路形成時のマスク材料で、回路パターン加工後に除去される。レジスト除去を行うウェット工程では、除去剤として除去活性の強いペルオキソ一硫酸を生成して使用する。その生成法は、硫酸に過酸化水素水を混合する方式であったが、新たに硫酸を電気分解する電解硫酸方式が実用化されたもの。

新方式では、従来できなかった硫酸のリサイクルが可能となり、硫酸使用量を約７割削減でき、また過酸化水素水を全廃できるので、環境負荷の低減および工場排水処理の効率化に寄与できる。さらにペルオキソ一硫酸を効果的に作ることができるため、レジスト除去に要する時間を約２割短縮できる。

本方式による最初の実用機は、東芝四日市工場の一部工程で当年４月から使用開始した。本実用化技術は、回路形成に関するウェハー加工全般に適用可能で、適用範囲を順次拡大する予定。

http://www.toshiba.co.jp/about/press/2007_02/pr_j1901.htm

登録日時: 2007/05/31 11:55:41 PM
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TAG 3R/廃棄物 , 企業（製造業） , 環境技術

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